La version PLA+ 2.0 offre jusqu’à 1,5× meilleure fluidité que le PLA standard, ce qui contribue à une alimentation régulière et à un processus d’impression plus stable. Cela aide à réduire le risque de problèmes d’extrusion et améliore la constance des couches.
Le Sunlu PLA+ 2.0 est conçu pour une durabilité accrue et une résistance à la fissuration. Il convient aux modèles robustes et aux pièces qui doivent supporter une manipulation quotidienne et des exigences plus élevées en matière de fiabilité.
Le filament prend en charge des vitesses d’impression jusqu’à 300 mm/s, ce qui réduit le temps de production sans perte notable de qualité. Une alimentation stable et une faible tendance à la déformation permettent une impression plus fluide, même sur des projets plus volumineux.
Le filament Sunlu PLA+ 2.0 combine la facilité d’impression propre au PLA avec une ténacité et une résistance supérieures, ce qui le rend adapté non seulement aux modèles visuels, mais aussi aux pièces fonctionnelles et aux composants destinés à un usage quotidien. La formulation améliorée de la version 2.0 assure un flux de matière plus stable, ce qui aide à limiter les interruptions d’extrusion et améliore la régularité des couches.
Si vous devez réduire les délais de réalisation, vous apprécierez la prise en charge de l’impression jusqu’à 300 mm/s sans compromis majeurs sur la qualité. Grâce à une tolérance de diamètre précise et à une faible tendance aux déformations, l’impression est plus fiable, même pour des impressions longues.
Principaux avantages du filament Sunlu PLA+ 2.0 :
