Le PLA+ 2.0 combine la facilité d’impression du PLA avec une ténacité et une résistance accrues. Il convient aux pièces fonctionnelles et aux modèles qui doivent supporter une utilisation courante, tout en conservant un bel aspect et une impression fiable.
Le matériau prend en charge des vitesses d’impression élevées jusqu’à 300 mm/s. Grâce à une alimentation stable, une meilleure fluidité et une faible tendance à la déformation, il est adapté à la production rapide de prototypes comme de projets plus volumineux.
Le filament est conçu pour une utilisation sans souci dans l’écosystème SUNLU (imprimantes, accessoires, sécheurs) et il est également compatible avec la plupart des imprimantes 3D FDM des autres marques. Vous pouvez ainsi l’intégrer facilement à votre workflow existant.
Le filament Sunlu PLA+ 2.0 est conçu pour les utilisateurs qui veulent imprimer de manière fiable, rapidement et avec une belle finition de surface. Par rapport au PLA standard, il apporte une meilleure fluidité à la fusion et donc un écoulement plus régulier du matériau, ce qui a un effet positif sur la constance des couches et la stabilité de l’ensemble du processus d’impression.
En pratique, vous apprécierez la combinaison de la facilité d’impression typique du PLA et d’une résistance accrue – idéale pour les modèles du quotidien comme pour les pièces fonctionnelles. Le filament est en outre compatible avec une large gamme d’imprimantes 3D FDM, ce qui permet de l’intégrer facilement à votre processus de travail.
Principaux avantages :
