PLA+ 2.0 combina la facilità di stampa tipica del PLA con maggiore tenacità e resistenza. È adatto per parti funzionali e modelli che devono sopportare l’uso quotidiano, mantenendo al tempo stesso un aspetto di qualità e una stampa affidabile.
Il materiale supporta alte velocità di stampa fino a 300 mm/s. Grazie all’alimentazione stabile, alla migliore fluidità e alla bassa tendenza alla deformazione, è ideale per la produzione rapida di prototipi e anche per progetti più grandi.
Il filamento è progettato per un utilizzo senza problemi nell’ecosistema SUNLU (stampanti, accessori, essiccatori) ed è allo stesso tempo compatibile con la maggior parte delle stampanti 3D FDM di altri marchi. Puoi quindi integrarlo facilmente nel tuo workflow esistente.
Il filamento Sunlu PLA+ 2.0 è pensato per utenti che vogliono stampare in modo affidabile, veloce e con una bella finitura superficiale. Rispetto al PLA standard offre una maggiore scorrevolezza in fusione e quindi un flusso del materiale più uniforme, con effetti positivi sulla consistenza degli strati e sulla stabilità dell’intero processo di stampa.
In pratica apprezzerai la combinazione tra la facilità di stampa tipica del PLA e una resistenza aumentata: adatto a modelli per l’uso quotidiano e a parti funzionali. Il filamento è inoltre compatibile con un’ampia gamma di stampanti 3D FDM, quindi lo inserirai facilmente nel tuo flusso di lavoro.
Vantaggi principali:
